联合光场调制的3D混合直写光刻构架

亚纳米精度结构光场光刻，高密度纳米结构制备，波长短、精度高、并行加工，空间光调制
任意结构500nm，位相调制特征结构100nm，单次处理300MB数据仅需1.5秒。